TiNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Titanium Niobium
Tantaal Niobium Sputtering Doelbeskriuwing
Titanium Niobium sputtering doel wurdt fabrisearre troch middel fan fakuüm smelten of macht metallurgy.De typyske titanium ynhâld is 66% (likernôch 50 gewicht%).It is in bûtengewoan supergeleidingsmateriaal en koe wurde makke yn in ferskaat oan gearstalde praktyske materialen troch konvinsjonele deformaasje en waarmtebehanneling.
Titanium Niobium Sputtering Target Packaging
Us titanium niobium sputterdoel is dúdlik markearre en ekstern markearre om effisjinte identifikaasje en kwaliteitskontrôle te garandearjen.Grutte soarch wurdt nommen om skea te foarkommen dy't kin wurde feroarsake tidens opslach of ferfier.
Krij kontakt
RSM's Titanium Niobium sputterdoelen binne fan ultra-hege suverens en unifoarm.Se binne beskikber yn ferskate foarmen, suverens, maten en prizen.
Wy koenen leverje in ferskaat oan geometryske foarmen: buizen, bôge kathodes, planar of maatwurk.Us produkten hawwe poerbêste meganyske eigenskippen, homogene mikrostruktuer, gepolijst oerflak sûnder segregaasje, poarjes of barsten.
Wy binne spesjalisearre yn it produsearjen fan hege suverens tinne film coating materialen mei poerbêste prestaasjes likegoed as de heechst mooglike tichtheid en lytst mooglik gemiddelde korrel maten foar gebrûk yn mal coating, dekoraasje, auto dielen, low-E glês, semi-conductor yntegrearre circuit, tinne film wjerstân, grafyske werjefte, loftfeart, magnetyske opname, touch skerm, tinne film sinne batterij en oare fysike damp deposition (PVD) applikaasjes.Stjoer ús asjebleaft in fraach foar aktuele prizen op sputterdoelen en oare ôfsettingsmaterialen dy't net neamd binne.
