TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Tantaal Niobium
Tantaal Niobium Sputtering Doelbeskriuwing
Tantalum Niobium sputterdoel wurdt makke troch middel fan fakuümsmelten fan Tantalum en Niobium.Dizze twa binne heech smeltpunt (Tantalum 2996 ℃, Niobium 2468 ℃), heech siedpunt (Tantalum 5427 ℃, Niobium 5127 ℃) seldsume metalen.Tantalum Niobium alloy hat it ferlykbere uterlik mei stiel, it hat in sulvergrize glâns (wylst it poeder donkergriis is).It hat in protte geunstige eigenskippen: corrosie ferset, superconductivity, en hege temperatuer sterkte.Dat alle applikaasjes of yndustry kinne profitearje fan it brûken fan Tantalum Niobium-legeringen, lykas elektroanika, glês en optyk, loftfeart, medysk apparaat, supergeleiding en stiel.
Tantaal en Niobium binne jierrenlang krúsjaal west yn 'e romte-yndustry fanwegen har yndrukwekkende sterkte, korrosjebestriding en oare oantreklike funksjes, en binne brûkt yn in protte wichtige komponinten lykas raketmotoren en sproeiers.
Tantaal Niobium Sputtering Target Packaging
Us TaNb-sputterdoel is dúdlik markearre en ekstern markearre om effisjinte identifikaasje en kwaliteitskontrôle te garandearjen.Grutte soarch wurdt nommen om skea te foarkommen dy't kin wurde feroarsake tidens opslach of ferfier.
Krij kontakt
RSM's Tantalum Niobium sputterdoelen binne fan ultra-hege suverens en unifoarm.Se binne beskikber yn ferskate foarmen, suverens, maten en prizen.Wy binne spesjalisearre yn it produsearjen fan hege suverens tinne film coating materialen mei poerbêste prestaasjes likegoed as de heechst mooglike tichtheid en lytst mooglik gemiddelde korrel maten foar gebrûk yn mal coating, dekoraasje, auto dielen, low-E glês, semi-conductor yntegrearre circuit, tinne film wjerstân, grafyske werjefte, loftfeart, magnetyske opname, touch skerm, tinne film sinne batterij en oare fysike damp deposition (PVD) applikaasjes.Stjoer ús asjebleaft in fraach foar aktuele prizen op sputterdoelen en oare ôfsettingsmaterialen dy't net neamd binne.
