AlTa Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made
Aluminium-Tantalum
De doelen wurde taret troch it mingjen fan aluminium- en tantaalpoeders of fakuümsmelten folge troch kompaktjen nei folsleine tichtens.De sa kompakte materialen wurde opsjoneel sintere en wurde dan foarme yn 'e winske doelfoarm.
Aluminium Tantalum sputtering doel hat hege suverens, homogene mikrostruktuer en poerbêst conductivity.It wurdt in protte brûkt yn 'e foarming fan tinne films foar platte paniel display yndustry.Aluminium Tantalum koe ek wurde tafoege foar it produsearjen fan hege prestaasjes Titanium alloy te ferbetterjen syn hege-temperatuer geskiktheid.
Unreinens ynhâld fan Al-Ta alloy
| komposysje | Ynhâld(%) | ||||
| Ta | Fe | Si | C | O | |
| AlTa60 | 55.0~65.0 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0.01 | ≤0,05 |
| AlTa70 | 65.0~75.0 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0.01 | ≤0,05 |
Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe aluminium Tantalum Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten.Us produkten hawwe poerbêste meganyske eigenskippen, homogene struktuer, gepolijst oerflak sûnder segregaasje, poarjes of barsten.Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.
