CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made
Chromium Aluminium
De fabrikaazje fan Chromium Aluminium Sputtering Targets omfettet de folgjende stappen:
1. Poeder grinding en mingen.
2. Hot isostatyske drukke behanneling om semi-ferwurke produkten te krijen.
3. It ferwurkjen fan it rûge chromium aluminium alloy sputtering doel materiaal om it chromium aluminium alloy sputtering doel materiaal te krijen.
Tidens it ôfsettingsproses fan CrAl-sputterende doelen wurdt in hurde Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) coating foarme.Dizze coating toant hege hurdens en oksidaasjebestriding eigenskippen sels by hege temperatueren.De cutters koenen rinne op hege feeds te fergrutsjen produktiviteit en ferheegje kwaliteit by it brûken fan CNC masines.
Us typyske AlCr-doelen en har eigenskippen
| Cr-70 Alby% | Cr-60 Alby% | Cr-50 Alby% | |
| Reinheid (%) | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 |
| Tichtheid(g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
| Grein Grutte(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Proses | HEUP | HEUP | HEUP |
Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe aluminium Chromium Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten.Us produkten hawwe poerbêste meganyske eigenskippen, homogene struktuer, gepolijst oerflak sûnder segregaasje, poarjes of barsten.Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.
