Wolkom op ús websiden!

NiCrCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nikkel Chromium Koper

Koarte beskriuwing:

Kategory

Alloy Sputtering Target

Gemyske formule

NiCrCu

Gearstalling

Nikkel chromium koper

Purity

99,5%, 99,7%, 99,9%, 99,99%

Foarm

Platen, Column Targets, boog kathodes, Maatmakke

Produksjeproses

Vacuum Melting

Beskikbere Grutte

L≤2000mm, W≤350mm


Produkt Detail

Produkt Tags

NiCrCu Sputtering-doel wurdt produsearre troch it smelten en jitten fan grûnstoffen fan Nikkel Chromium Koper.It hat hege resistivity, lege temperatuer koëffisjint en hege gefoelichheid.Nikkel en Chromium hawwe ferlykbere oerflak enerzjy, en de gearstalling fan NiCrCu tinne-film ôfsetting is fergelykber mei de sputtering doel, dus it is maklik om te kontrolearjen de deposition resultaat.

Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe nikkel Chromium Koper Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten.Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.


  • Foarige:
  • Folgjende: