De tinne film op it coated doel is in spesjale materiaal foarm.Yn 'e spesifike rjochting fan dikte is de skaal tige lyts, dat is in mikroskopysk mjitbere kwantiteit.Dêrneist, fanwege it uterlik en ynterface fan film dikte, materiaal kontinuïteit terminates, dat makket de film gegevens en doel gegevens hawwe ferskillende mienskiplike eigenskippen. it prinsipe en feardichheden fan sputtering coating.
一, Prinsipe fan sputterende coating
Sputtering coating feardigens is te brûken ion shelling doel uterlik, de doelgroep atomen wurde rekke út it ferskynsel bekend as sputtering.De atomen ôfset op it oerflak fan it substraat wurde neamd sputtering coating. Algemien, gas ionisaasje wurdt produsearre troch gas ûntslach, en de positive ioanen bombast de kathode doel op hege snelheid ûnder de aksje fan elektryske fjild, opfallend út de atomen of molekulen fan de kathode doel, en fleane nei it oerflak fan it substraat te wurde dellein yn in film. Simply speaking, sputtering coating brûkt lege druk inerte gas glow ûntslach te generearjen ioanen.
Algemien, de sputtering film plating apparatuer is foarsjoen fan twa elektroden yn in fakuüm discharge keamer, en de kathode doel is gearstald út coating gegevens.De fakuümkeamer is fol mei argongas mei in druk fan 0.1 ~ 10Pa.Glow discharge komt foar by de kathode ûnder de aksje fan negative hege spanning fan 1 ~ 3kV dc of rf spanning fan 13.56mhz.Argon ioanen bombardearje it doel oerflak en feroarsaakje de sputtered doel atomen te sammeljen op it substraat.
二、Sputtering coating feardichheden skaaimerken
1, Snelle stapelsnelheid
It ferskil tusken de hege snelheid magnetron sputtering elektrodes en de tradisjonele twa-poadium sputtering elektrodes is dat de magneet wurdt regele ûnder it doel, sadat it sletten unjildich magnetysk fjild komt op it oerflak fan it doel. De lorentz krêft op 'e elektroanen is nei it sintrum fan it heterogene magnetyske fjild.Troch it fokussearjende effekt ûntkomme de elektroanen minder.De heterogene magnetyske fjild giet om it doel oerflak, en de sekundêre elektroanen fongen yn de heterogene magnetyske fjild botse mei de gas molekulen kearen, dy't ferbetteret de hege konverzje taryf fan de gas molecules.Dêrom, de hege snelheid magnetron sputtering verbruikt lege macht, mar kin krije in grutte coating effisjinsje, mei ideale discharge skaaimerken.
2, It substraat temperatuer is leech
Hege snelheid magnetron sputtering, ek wol bekend as leechtemperatuer sputtering.De reden is dat it apparaat ûntladingen brûkt yn in romte fan elektromagnetyske fjilden dy't rjocht op elkoar binne.De sekundêre elektroanen dy't foarkomme oan 'e bûtenkant fan it doel, yn elkoar.Under de aksje fan in rjocht elektromagnetysk fjild wurdt it bûn tichtby it oerflak fan it doel en beweecht it lâns de baan yn in sirkelfoarmige rôljende line, en kloppet ferskate kearen tsjin de gasmolekulen om de gasmolekulen te ionisearjen. Mei-inoar ferlieze de elektroanen sels stadichoan har enerzjy, troch werhelle bulten, oant harren enerzjy is hast hielendal ferlern foardat se kinne ûntkomme út it oerflak fan it doel tichtby it substraat.Omdat de enerzjy fan de elektroanen sa leech is, komt de temperatuer fan it doel net te heech op.Dat is genôch om de temperatuerferheging fan it substrat tsjin te gean dy't feroarsake wurdt troch it hege-enerzjy-elektronenbombardemint fan in gewoane diodeskot, dy't de kryogenisaasje foltôget.
3, In breed oanbod fan membraan struktueren
De struktuer fan tinne films krigen troch fakuüm ferdamping en ynjeksje ôfsetting is hiel oars as dy krigen troch thinning bulk fêste stoffen.Yn tsjinstelling ta de algemien besteande fêste stoffen, dy't yn trije diminsjes as yn essinsje deselde struktuer klassifisearre wurde, wurde de films dy't yn 'e gasfaze delset binne as heterogene struktueren klassifisearre.De kolomgroei fan 'e film wurdt feroarsake troch it orizjinele konvexe oerflak fan' e substrat en in pear skaden yn 'e promininte dielen fan' e substrat.De foarm en grutte fan 'e kolom binne lykwols hiel oars fanwegen de substraattemperatuer, de oerflakfersprieding fan opsteapele atomen, it begraven fan ûnreinheidsatomen en de ynfallende hoeke fan ynfallende atomen relatyf oan it substraatflak.Yn it oerstallige temperatuerberik hat de tinne film in fibrous struktuer, hege tichtheid, gearstald út moaie kolomkristallen, dat is de unike struktuer fan 'e sputterfilm.
Sputterende druk en filmstapelsnelheid beynfloedzje ek de struktuer fan 'e film.Om't gasmolekulen it effekt hawwe om de fersprieding fan atomen op it oerflak fan it substraat te ûnderdrukken, is it effekt fan hege sputterdruk geskikt foar de substraattemperatuerfal yn it model.Dêrom kinne poreuze films mei fyn korrels wurde krigen by hege sputterdruk.Dizze film mei lytse korrelgrutte is geskikt foar smering, slijtbestriding, oerflakferhurding en oare meganyske tapassingen.
4, Arrange gearstalling evenredich
Ferbinings, mingden, alloys, ensfh., dy't passend lestich te beklaaien binne troch fakuümferdamping, om't de dampdrukken fan 'e komponinten ferskillend binne of om't se ferskille by ferwaarming. Sputtering coating metoade is om it doel oerflak laach fan atomen laach foar laach oan it substraat, yn dizze sin is in mear perfekte film meitsjen feardichheden.Alle soarten materialen kinne brûkt wurde yn yndustriële coating produksje troch sputtering.
Post tiid: Apr-29-2022