Lykas wy allegear witte, wurde fakuümferdamping en ion-sputtering faak brûkt yn fakuümcoating.Wat is it ferskil tusken evaporaasjecoating en sputteringcoating?Dêrnei sille de technyske saakkundigen fan RSM mei ús diele.
Vacuum evaporation coating is te ferwaarmjen it materiaal dat moat wurde ferdampt ta in bepaalde temperatuer troch middel fan ferset ferwaarming of elektroanen beam en laser bombardemint yn in omjouwing mei in fakuüm graad fan net minder as 10-2Pa, sadat de termyske trilling enerzjy fan molekulen of atomen yn it materiaal is grutter as de binende enerzjy fan it oerflak, sadat in grut oantal molekulen of atomen evaporearje of sublimearje, en direkt op it substraat falle om in film te foarmjen.Ion sputterende coating brûkt de hege snelheid beweging fan positive ioanen generearre troch gas ûntlading ûnder de aksje fan elektrysk fjild te bombardearje it doel as de kathode, sadat atomen of molekulen yn it doel ûntsnappe en precipitate nei it oerflak fan de plated workpiece te foarmjen de fereaske film.
De meast brûkte metoade fan fakuüm ferdamping coating is ferset ferwaarming, dat hat de foardielen fan ienfâldige struktuer, lege kosten en handige operaasje;It neidiel is dat it net geskikt is foar fjoerwurkmetalen en hege temperatuerbestindige dielektryske materialen.Electron beam ferwaarming en laser ferwaarming kinne oerwinne de tekortkomingen fan ferset ferwaarming.By ferwaarming fan elektroanenstralen wurdt de rjochte elektroanenstraal brûkt om it bombardearre materiaal direkt te ferwaarmjen, en de kinetyske enerzjy fan 'e elektroanenbeam wurdt waarmte-enerzjy, wêrtroch it materiaal ferdampt.Laser ferwaarming brûkt hege-power laser as de ferwaarming boarne, mar troch de hege kosten fan hege-power laser, it kin allinnich brûkt wurde yn in pear ûndersyk laboratoariums op it stuit.
Sputtering technology is oars as fakuüm evaporation technology."Sputtering" ferwiist nei it ferskynsel dat opladen dieltsjes it fêste oerflak (doel) bombardearje en fêste atomen as molekulen út it oerflak meitsje.De measte fan 'e útstjoerde dieltsjes binne yn atomêre steat, wat faaks sputtered atomen neamd wurdt.De sputterde dieltsjes dy't brûkt wurde om it doel te bombardearjen kinne elektroanen, ioanen of neutrale dieltsjes wêze.Om't ioanen maklik te fersnellen binne ûnder it elektryske fjild om de fereaske kinetyske enerzjy te krijen, brûke de measten fan harren ioanen as bombardearde dieltsjes.Sputtering proses is basearre op gloei discharge, dat is, sputtering ionen komme út gas discharge.Ferskillende sputtertechnologyen nimme ferskate modi foar gloeitlading oan.DC diode sputtering brûkt DC glow discharge;Triode sputtering is in gloednij ûntslach stipe troch hot cathode;RF-sputtering brûkt RF-gloedûntlading;Magnetron sputtering is in gloeiûntlading regele troch in ringfoarmich magnetysk fjild.
Yn ferliking mei fakuüm ferdamping coating, sputter coating hat in protte foardielen.Bygelyks, elke stof kin sputtered wurde, benammen eleminten en ferbiningen mei hege smeltpunt en lege dampdruk;De adhesion tusken sputtered film en substraat is goed;hege filmdichtheid;De filmdikte kin wurde kontroleare en de werhelling is goed.It neidiel is dat de apparatuer kompleks is en heechspanningsapparaten fereasket.
Derneist is de kombinaasje fan evaporaasjemetoade en sputtermetoade ionplating.De foardielen fan dizze metoade binne dat de krigen film sterke adhesion hat mei it substraat, hege ôfsettingssnelheid en hege filmdichtheid.
Post tiid: Jul-20-2022