Koartlyn fregen in protte freonen oer de skaaimerken fan molybdenum sputterende doelen.Yn 'e elektroanyske yndustry, om de sputtereffisjinsje te ferbetterjen en de kwaliteit fan deponearre films te garandearjen, wat binne de easken foar de skaaimerken fan molybdenum sputterdoelen?No sille de technyske saakkundigen fan RSM it ús útlizze.
1. Reinheid
Hege suverens is in basis karakteristike eask fan molybdenum sputtering doel.Hoe heger de suverens fan molybdenum doel, hoe better de prestaasjes fan sputtered film.Algemien, de suverens fan molybdeen sputtering doel moat wêze op syn minst 99,95% (massa fraksje, itselde hjirûnder).Mei de trochgeande ferbettering fan 'e grutte fan' e glêzen substraat yn 'e LCD-yndustry is de lingte fan' e bedrading lykwols nedich om te ferlingjen en de linewidth is nedich om tinner te wêzen.Om de unifoarmens fan 'e film en de kwaliteit fan' e bedrading te garandearjen, is de suverens fan 'e molybdenum-sputterdoel ek ferplicht om dêrmei te ferheegjen.Dêrom, neffens de grutte fan it sputtered glêzen substraat en it gebrûk omjouwing, de suverens fan molybdenum sputtering doel is ferplichte te wêzen 99,99% - 99,999% of sels heger.
Molybdenum sputtering doel wurdt brûkt as kathode boarne yn sputtering.Unreinheden yn fêste en soerstof en wetterdamp yn poaren binne de wichtichste boarnen fan fersmoarging fan ôfsetfilms.Derneist, yn 'e elektroanyske yndustry, om't alkalimetaalionen (Na, K) maklik mobile ioanen wurde yn' e isolaasjelaach, wurdt de prestaasjes fan it orizjinele apparaat fermindere;Eleminten lykas uranium (U) en titanium (TI) wurde útbrocht α X-ray, resultearret yn sêfte ôfbraak fan apparaten;Izer en nikkel ioanen sille feroarsaakje ynterface lekkage en tanimming fan soerstof eleminten.Dêrom, yn it tariedingsproses fan molybdeen sputtering-doel, moatte dizze ûnreinheidseleminten strikt wurde kontroleare om har ynhâld yn it doel te minimalisearjen.
2. Grain grutte en grutte ferdieling
Yn 't algemien is it molybdeen-sputterdoel polykristallijne struktuer, en de korrelgrutte kin fariearje fan mikron oant millimeter.De eksperimintele resultaten litte sjen dat de sputtering taryf fan fyn nôt doel is flugger as dy fan grof nôt doel;Foar it doel mei lyts nôtgrutte ferskil is de dikteferdieling fan 'e deponearre film ek unifoarmer.
3. Crystal oriïntaasje
Om't de doelatomen maklik by foarkar sputtere wurde lâns de rjochting fan 'e tichtste arranzjemint fan atomen yn' e hexagonale rjochting tidens sputterjen, om de heechste sputtertaryf te berikken, wurdt de sputtertaryf faak ferhege troch it feroarjen fan de kristalstruktuer fan it doel.De kristalrjochting fan it doel hat ek in grutte ynfloed op 'e dikteuniformiteit fan' e sputtered film.Dêrom is it heul wichtich om in bepaalde kristal-rjochte doelstruktuer te krijen foar it sputterproses fan 'e film.
4. Fertinking
Yn it proses fan sputterende coating, as it sputterende doel mei lege tichtheid wurdt bombardeard, wurdt it gas besteande yn 'e ynterne poaren fan it doel ynienen frijlitten, wat resulteart yn it spatten fan grutte doeldieltsjes of dieltsjes, as it filmmateriaal wurdt bombardearre troch sekundêre elektroanen nei filmfoarming, wat resulteart yn dieltsje spatten.It uterlik fan dizze dieltsjes sil de kwaliteit fan 'e film ferminderje.Om de poaren yn 'e doelfêst te ferminderjen en de filmprestaasjes te ferbetterjen, is it sputterdoel oer it generaal ferplicht om in hege tichtheid te hawwen.Foar de molybdenum sputtering doel, syn relative tichtheid moat wêze mear as 98%.
5. Bining fan doel en chassis
Yn 't algemien moat it molybdenum-sputterdoel ferbûn wêze mei it soerstoffrije koper (as aluminium en oare materialen) chassis foardat it sputterjen, sadat de termyske konduktiviteit fan it doel en chassis goed is tidens it sputterproses.Nei it binen moat ultrasone ynspeksje wurde útfierd om te soargjen dat it net-bûnende gebiet fan 'e twa minder is dan 2%, om te foldwaan oan' e easken fan sputterjen mei hege krêft sûnder ôf te fallen.
Post tiid: Jul-19-2022