Wolkom op ús websiden!

CoNbZr Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Kobalt Niobium Zirkonium

Koarte beskriuwing:

Kategory

Alloy Sputtering Target

Gemyske formule

CoNbZr

Gearstalling

Kobalt Niobium Zirkonium

Purity

99,9%, 99,95%, 99,99%

Foarm

Platen, Column Targets, boog kathodes, Maatmakke

Produksjeproses

Vacuum Melting

Beskikbere Grutte

L≤200mm, W≤200mm


Produkt Detail

Produkt Tags

Sputterdoelen makke fan ferromagnetyske materialen binne kritysk foar ôfsetting fan tinne film yn yndustry lykas gegevensopslach en VLSI (hiel grutskalige yntegraasje) / semiconductors.Cobalt Niobium Zirconium wurdt makke troch it smelten fan de alloys yn in fakuüm omjouwing en dêropfolgjende casting te foarmjen de winske doelfoarm.CoNbZr alloy sputtering doel wurdt faak brûkt as ôfsettingsboarne foar ferromagnetyske laach yn 'e produksje fan magnetyske opslach media en oergongslaach yn batterij fabrication.

Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe kobalt Niobium Zirconium Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten.Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.


  • Foarige:
  • Folgjende: